靶（bǎ）標通常是用化學蝕刻（kè）工藝製作的金屬薄片產品（pǐn），也稱紅（hóng）外靶標或模擬（nǐ）靶標 。靶標是由多個靶元組（zǔ）成的大麵積（jī）靶標陣列及上位機所（suǒ）組（zǔ）成。

從新型電子（zǐ）模擬靶標係統（tǒng）到靶標技術發展現狀