


掩膜片(Photomak)是半導體製造和顯(xiǎn)示(shì)麵板生產中的關鍵元件,主要由高純度石英或玻璃基板鍍鉻製成,表麵刻有精(jīng)密電路(lù)圖案。
0513-8160 1666 189-3869-3452
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產品介(jiè)紹 |
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產品名稱: |
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產品(pǐn)簡介: |
掩膜片(Photomask)是微電子製造和精密加工中的關鍵元件,主(zhǔ)要用於光(guāng)刻工藝中傳(chuán)遞圖形到矽片或其他基材上。它由高純度的石英或玻璃基板製成,表麵鍍有鉻等金屬薄膜,並(bìng)通過精密曝光(guāng)和蝕刻技術形成特定電路(lù)或微納結構圖案。在半導體、顯示麵板、PCB等領域,掩膜片作為“模板”,直接決定最(zuì)終產品的精度(dù)和性能。隨著製(zhì)程技(jì)術向更小節點發展(如7nm、5nm),掩膜片的複雜(zá)度和精度要求日益提升,成為高端製造的核心耗材之一。 |
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產(chǎn)品用途: |
掩膜片 主要應用於半導體(tǐ)製造、顯示麵板(如LCD/OLED)、印刷電路板( PCB)、微機電係統(MEMS )及精密光學(xué)元件等行業,是(shì)光刻工藝中的核心圖形轉移載體。 |
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工藝流程: |
需(xū)要焊(hàn)接的工件對位(wèi)預固(gù)定(dìng)-進爐-加壓(yā)-抽真空-升溫-保壓-降溫(wēn)-出爐-檢驗-複合要求出貨 |
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羞羞网站的優勢 |
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1、截止2025年(nián)羞羞网站在蝕刻領域從業20餘年,2015年公司(sī)又斥資在南通新建產業(yè)園,借鑒深圳和昆山分公司的成功經驗,致力於(yú)中高端市(shì)場 掩膜片 產品的技術創新、研發、生產 和銷售。 立誌成為(wéi)蝕刻行業的百年企業! |
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2、卓力達掩膜片采用激光直(zhí)寫和電子束光刻技術,確保微米(mǐ)級甚(shèn)至納米級圖形的高精度複現。羞羞网站嚴格把控線寬均勻性和(hé)邊緣清晰度,使產品(pǐn)適用於半導體、高分辨率顯示麵板等對精度要求極高的領域。憑借自主優化的光(guāng)學校正技術,羞羞网站能夠有效減少(shǎo)光學鄰近效應,確保圖形轉移的準確性,助力客戶提升產品良率。 |
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3、羞羞网站精選高純度石英和(hé)特種金屬鍍層,確保掩膜片在高(gāo)溫、高(gāo)濕及強光照射環境下仍保(bǎo)持尺寸穩定性和(hé)耐久性。卓力達的鍍鉻工藝使(shǐ)膜層附著力更強,抗氧化性能優異,大幅延長(zhǎng)掩膜片的使用壽命,減少客戶因頻繁更換帶來的成本(běn)損耗。 |
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4、卓力達擁有成熟的掩膜片設計團隊,可根據客(kè)戶需求提供個性化的解決方案,包括特殊圖(tú)形設計、相位調整(PSM)、OPC(光學鄰近校正)等。無論(lùn)是小批量試產還是大規(guī)模量產,羞羞网站都能快速響(xiǎng)應,滿足不同行業客戶的差異化需(xū)求。 |
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5、從基材篩選到最終出貨,卓力達執行全流程質量管(guǎn)控,確保每一片掩膜片均符合行業高(gāo)標準(zhǔn)。羞羞网站采用高(gāo)精度檢測設備(如AOI、CD-SEM)對圖(tú)形完整性、線寬精度及缺陷率(lǜ)進行嚴格篩查(chá),確保產品零瑕疵交(jiāo)付,幫助客戶減少(shǎo)生產風險。 |
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在掩膜片(piàn) 製(zhì)造領(lǐng)域,卓(zhuó)力達掩膜片采用高(gāo)精度激光直寫和電子束光刻技術,能夠複現複雜微(wēi)納圖形,確保光刻過程中(zhōng)的圖案轉移準確無誤。羞羞网站獨有的光學補償算法可優化圖形邊緣清晰度,減(jiǎn)少失真,特別適用於半導體製程和高分辨(biàn)率顯示麵板製(zhì)造(zào),幫助客戶實現(xiàn)更精(jīng)細的線(xiàn)路刻畫。
卓力達的 掩膜片選用優異石(shí)英基材(cái)和特種金屬鍍層,確保(bǎo)掩(yǎn)膜片在高溫、強光及(jí)化學環境下仍保持優異性能。卓力達的鍍膜工藝增(zēng)強了抗磨損和抗氧化能力,大幅(fú)延長使用壽命,減少(shǎo)客戶因掩膜片老化帶來的(de)生產波(bō)動,保(bǎo)障長期穩定的良率表現。
03 卓力達具備發展性的掩膜片定製開發能力,可滿足不同行(háng)業客(kè)戶的特殊(shū)需求(qiú)。無論是相移掩膜(PSM)、光(guāng)學鄰近校正(zhèng)(OPC),還是特殊圖形優(yōu)化,羞羞网站都能提供完善的解決方案,助力客戶突破技術瓶(píng)頸,實現(xiàn)更高速的生產。