中微5nm蝕刻機成了，台積電已驗收，純國產純自主研發 

        眾所周知，半導體（tǐ）工藝是一項集大成的高精密科技，製成越高工藝也就越高，從65nm到32nm再（zài）到如今的10nm，因為製成難度問題淘汰掉了很多（duō）半導體企業，還在為更高製成研發的半導（dǎo）體企業也很少。

        近日，國產中微傳來喜訊，旗下5nm等（děng）離子體蝕刻機通過了台積電的驗證，未來台積電生產5nm製成將會用到由中微提供的蝕刻機，該蝕刻（kè）機由國產（chǎn）中微完全自主研發，可喜可賀。

1、中微成立於2004年，在半導體行（háng）業小有名氣

        中微在半導體行業算是小有（yǒu）名氣了，該公司（sī）有多位（wèi）留美歸（guī）國博士所創立，成立（lì）於2004年11月，總投資5億元，對於此次成功研發出（chū）5nm蝕刻機，中微半導（dǎo）體CEO尹誌堯表示：在米粒（lì）上刻字（zì）的微雕（diāo）技藝上，一般（bān）能刻200個字已經是極限，而我（wǒ）們的（de）等離子刻蝕機在芯片上的加工工藝，相當於（yú）可以在米粒上刻10億（yì）個字的水平。

2、5nm蝕刻機成了，不代表可以量產5nm芯片

        不過需要注意的是，中微搞定了5nm蝕刻（kè）機並不代表台積電就可以直接用來生（shēng）產5nm製（zhì）成了，因為蝕刻機隻是眾多（duō）工藝中的一個環節而已，而（ér）重要的光刻機（jī），台積電仍然需要從荷蘭ASML進口（kǒu）。

3、國產的自主光刻機僅可生產90nm工藝

        所以說，我國半導體行業和世界大廠之間的差距還是很大的，尤其是重要的光刻機，國內做光刻機好的是上海微電子，但可惜微電子也僅能生產90nm，但令我（wǒ）們欣慰的是，國（guó）內有很（hěn）多像中微（wēi）這樣的半（bàn）導體企業在不斷努力，差距也（yě）在不斷縮（suō）小。

        對於像中微這樣的企業我（wǒ）們（men）應該給予鼓勵和（hé）支持，完全的自（zì）主研發，不采用任何架構（gòu），希望中微再接再厲，可以在半導體行業占據一席（xí）之地。