我國光掩膜版行業（yè）發展現狀

掩膜概述

光掩膜（mó）一般也稱光罩，是微電子製造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，並通過（guò）曝光將圖形轉印到產品基板上。光掩膜主要由兩部（bù）分組成：基板和不（bú）透光材料。作為半導體、液晶顯示器製造過程中轉（zhuǎn）移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導體製程中（zhōng）的一環。

光掩膜的應（yīng）用

光掩膜主要應用於集成電路、平板顯示（包括 LCD、LED、OLED）、印刷電路板等領（lǐng）域，應用較為廣泛（fàn）。

光掩膜基板在光（guāng）刻工（gōng）藝中的應用（yòng）示例（lì）

光掩膜（mó）行業產業鏈

光（guāng）掩膜上（shàng）遊主要包括圖形設計、光掩膜設備（bèi）及材料行業，下遊主要包括IC製造（zào）、IC封裝、平麵顯示和印製線路板等行業，應用於主流消費電子 （手機、平板、可穿戴設備）、筆記本電腦、車（chē）載電（diàn）子、網絡通信、家用（yòng）電器、LED 照明、物聯網、醫療電子等（děng）終端產品。

目前全球範（fàn）圍內光刻（kè）掩（yǎn）膜版主要以（yǐ）生產商為主。由（yóu）於（yú）下遊應用領域（yù）廠商自建光刻掩膜版生產線的（de）投入產出比很低，且光（guāng）刻掩膜版行業具有一定的技術壁壘，所以光刻掩膜版都是由生產商進行生產。

光掩膜（mó）產業鏈

光掩膜版行業競爭格局

半導體光掩模市場集（jí）中度高，Photronics、大日本印刷株式會社DNP和日本凸版印刷株式會社Toppan三家占據80%以上的市（shì）場（chǎng）份額。

我國的（de）光掩膜版行業僅能夠滿足國內中低檔產品市場的（de）需求，高光掩膜版則由（yóu）國外公司直接（jiē）提供。目前，國內的光掩膜版企業主要集（jí）中在上海、北（běi）京、深圳及江浙地區，它們的市場側點各（gè）不相同。

2018年我國光（guāng）掩膜版市場競（jìng）爭結構分析

光（guāng）掩膜版（bǎn）行業市場概況

1. 市場供（gòng）需情況（kuàng）

2011年我國光掩膜版生產規模為0.87萬平方米，2017年生產規模增（zēng）長（zhǎng）到1.69萬平方米，複合增長（zhǎng）率達到14.20%。

2011-2016年我國光掩膜版（bǎn）生產（chǎn）規模分析

從我國光掩膜版的需求（qiú）量來看，行業需求穩定增（zēng）長，2016年需求量達到了7.98萬平方米。

2011-2016年我國光（guāng）掩膜版需求量

2016年我國光掩膜（mó）版國內總產量為1.69萬平（píng）方米，年度消費（fèi）量為7.98萬平方米，國內（nèi）光掩膜版淨（jìng）進（jìn）口量達到6.29萬平（píng）方米。

2011-2016年我國光掩膜版供需統計圖

2. 市場（chǎng）規模

2018年我國光掩膜版需求市場規模為56.7億元，2016年（nián）國內需求市場規模增（zēng）長到59.5億元，規模較上年同期增長4.9%。

假設（shè）光掩膜基板材料成本占比為（wéi）30% 並考（kǎo）慮整體市場規（guī）模的增長，則2016年我國光掩膜基板的市（shì）場規模超過20億元。

2011-2016年我國光掩膜市場規模及增速

隨著（zhe）手機、電腦、液晶電視等市場需求的增長（zhǎng），以及穿戴式產品、智能家居等新型（xíng）市場的（de）興起，全（quán）球LCD麵板需求也（yě）快速增長。同時，在國家政策（cè）的扶持下，我國TFT-LCD行業快速發展。

根據半導體協會EMI統計，2017年全球光掩膜（mó）市場以 37.5億（yì） 美元創（chuàng）下曆史新高，預（yù）計2019年將超越 40億 美元大關。而全球的光（guāng）掩膜市（shì）場是台灣地區，其次是韓國，而大陸在全球光掩模市場的份額現約個位數，市場預期在2020年有機會挑戰20%份額。

在合成（chéng）石英玻璃材料製備方麵，國內企業已具備生產G8代大尺寸、高精度 TFT-LCD光掩膜基板技術能力。在（zài）我國 TFT-LCD 全球市場份額持續增長，國（guó）產合成石英玻璃材料競爭優勢進一步（bù）提升的情況下，光掩（yǎn）膜基板業務有望（wàng）快速成（chéng）長，成為企業新（xīn）的業（yè）績增長點。

3. 發展趨勢

光掩膜版（bǎn）行業的發展主要受下遊平板顯示行業、觸控行業、半導體行業和電路板行（háng）業的影響，與下遊終端（duān）行業的發展趨勢密切相關。

在光刻掩膜版領域，國內廠商與國外技術存在一定（dìng）差距（jù）。目前，光罩的核心技術主要掌握在日本的HOYA、SKE，韓國的LG Micron、PKL以及我（wǒ）國台灣地區（qū）的AIPC等企（qǐ）業手中，由於其對於光掩膜版的（de）關鍵（jiàn）技（jì）術與設備進行了較為嚴格的封鎖，所以導致國內（nèi）廠商在技術上與國外廠商相比存在一定的差距。

未來幾年我國掩膜版行業（yè）將向大尺寸、精（jīng）細化、全產業鏈方向發展，因此在需求持續增加的情（qíng）況下，影響光掩膜行業發（fā）展（zhǎn）的因素還（hái）是技（jì）術的研究情況（kuàng）。