行業小白不要慌！明白這7步輕鬆了解蝕刻工藝

   “蝕刻”，顧名思義就用帶有腐蝕性的酸在金（jīn）屬或其他材料表麵腐蝕並刻出（chū）圖案。而蝕刻作為新興的化學切削方式，為人類現代科學技術（shù）的發展（zhǎn）作出了突出貢獻。那麽蝕刻（kè）圖案到底是怎麽形成的呢？

蝕刻工藝流程及原理

開料→清洗板材→幹膜或塗布→焗爐烘幹→曝光→ 顯影→蝕刻→脫膜→檢測包裝

      1.基板的清洗與表麵處理

目（mù）的：除去蝕刻 工件表麵的防鏽油、潤滑油、乳化液及工作人員分泌的汗漬油脂等。成份組（zǔ）成（chéng）：氫氧化鈉、碳酸（suān）鈉（nà）等堿性物質及十二（èr）烷基苯磺酸鈉等。清洗不完全，塗布工序中保護膜脫落，保護膜（mó）與 蝕刻 工件的接（jiē）合力（lì），使 蝕刻 過程中保（bǎo）護膜脫落，造成工件的損壞（huài）。

2. 塗布（塗布感光油墨）

可以（yǐ）采用滿版印刷、刷塗、滾塗或噴（pēn）塗的方式（shì），對（duì）油（yóu）墨塗層的均一性要求不是（shì）很高，能保證塗層在蝕刻時，對（duì）蝕刻 產品需保護部位充分的保護。此工序和製作網板中（zhōng）的塗布工（gōng）序差不多（duō），隻是製（zhì）作網板是在網砂上塗感光（guāng）油墨（mò），而金屬蝕刻是直接在工件表麵塗（tú）布。

3.焗（jú）爐烘幹
       焗爐烘幹采用全自動化產線，視金屬材料的（de）要求和厚度，烘幹時間（jiān）不等，目的隻是防止曝光時感光油墨粘住菲林，要在暗室中進行操作。
       4 .曝光（guāng）
        曝光在紫外光的照（zhào）射下，光引發劑吸收光能分解成遊離基，遊離基再引發不（bú）聚合單體進行聚合交聯反（fǎn）應，反應後形成不溶於稀堿溶液的體形大分子結構。曝光一般在自動麵曝（pù）光機內進行。曝光成像質量除幹膜光到抗蝕劑的性能外，光源的選擇（zé），曝光的時間的控製，照相底版（bǎn）的質量等，都是影響（xiǎng）曝光成像質量的重要因（yīn）素。

5.顯影

曝光的鋼片（piàn）放（fàng）入顯（xiǎn）影機顯影，用5‰~12‰Na ₂CO₃溶（róng）液，顯影溫度30℃~40 ℃，顯（xiǎn）影時活性基團羧基 -COOH與（yǔ）Na₂CO₃反（fǎn）應，生成親水性基團 -COONa ，從而（ér）把未曝光的部分溶解下來，而曝光部分的幹膜不被溶解，保留在板麵上使圖案部分基材（cái）不被藥水蝕刻。

6.蝕刻
      通（tōng）常蝕刻也稱（chēng）光化學蝕刻，指通過曝光製版、顯影，將要蝕刻的區域去除（chú）。在蝕刻時接觸化學溶液，使用兩（liǎng）個陽性圖（tú）形，通過從兩麵的化學研磨達到溶解（jiě）腐（fǔ）蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成（chéng）型的效果（guǒ）。化學蝕刻是很有針對（duì）性的，專指（zhǐ）受控腐蝕，是金屬通過化學方法（fǎ）進行一種可（kě）以控製的加工方法。

7.脫墨（退膜）

通過較高濃度的NaOH(1-4%),將其加溫到50℃左右，NaOH具有強腐蝕性，其與基（jī）材表麵的感光材料發生化（huà）學反應，將基材表麵的感光（guāng）材料剝離。

在（zài）高端的航天航空工業中，化學蝕刻已成為製造飛機（jī）、外太（tài）空飛行器、導彈（dàn）等的大型整體結構的（de）標準加工方法；在現代（dài）電（diàn）子工業中，尤其是各種集成芯片的製作上，化學（xué）蝕刻是其他加工方法所不可代替的（de）。在普通民用領域，越來越多的電子機殼、儀表盤、銘牌等都大量（liàng）采（cǎi）用化學蝕刻加工方法來進（jìn）行（háng）製作，以提（tí）高其產品的裝飾性及檔次，增強其產品在市場上的（de）競爭力。如果想（xiǎng）了解更多蝕刻知識以及蝕刻（kè）行業（yè）信（xìn）息，歡迎隨（suí）時聯係羞羞网站！谘詢熱線（xiàn）： 0513-81601666